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設備名稱

化學濕臺

用途

濕法 清洗 腐蝕

操作方式

手動/半自動/自動

適用領域

半導體材料、集成電路、MEMS、LED芯片、功率器件等

適用工藝

酸洗、堿洗、有機清洗、刻蝕、超聲（兆聲清洗）、QDR清洗、顯影、去膠、電鍍、旋干

清洗方式

槽式清洗 單片清洗

可清洗尺寸

2吋--12吋

藥液供給

手動/自動

主體材質

PP PVC不銹鋼

槽體材質

石英、PVDF、PTFE、NPP、 不銹鋼等

溫控精度

±1℃

安全防護

自動安全門、漏液報警、漏電保護、液位保護、急停、聲光報警系統(tǒng)

模塊化設計

滿足客戶多種工藝及產能的定制化要求

可編程菜單，方便用戶操作，直觀

實時流程顯示，可控性強

多級密碼，方便管理，安全可靠

自動保存生產數(shù)據(jù)

可實現(xiàn)遠程控制

可實現(xiàn)功能

藥液管理系統(tǒng)（自動供液、自動補液、循環(huán)過濾）、在線加熱、甩干、電導率檢測、恒溫系統(tǒng)、百級FFU、自動滅火等